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在面對微波消解完趕酸過程中經(jīng)常遇到的趕酸時間長、酸腐蝕嚴重存在的問題，使用真空趕酸系統(tǒng)可以把原來的趕酸時間從原來的3-4個小時縮短到30-40分鐘之間，大大提高趕酸效率，并且通過堿液吸收，可避免酸氣的腐蝕，杜絕污染。真空趕酸系統(tǒng)采用集成式優(yōu)...

潔凈的樣品前處理容器是獲得可靠分析結果的前提。痕量分析所使用的微波消解罐、常壓消解罐、玻璃器皿（試管、燒杯、容量瓶等）等的痕量清洗，對于實驗室人員來說，始終是一個非常繁瑣而又非常重要的挑戰(zhàn)。使用酸蒸逆流清洗器可以解決這些問題。酸蒸逆流清洗器...

紫外臭氧清洗機在現(xiàn)代信息技術行業(yè)中使用光清洗技術比較普遍，隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術還將逐步應用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領域。紫外臭氧清洗機提供一種簡單,經(jīng)濟，快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片,...

恒溫電熱板主要用于實驗室和化學生產(chǎn)中大規(guī)模的加熱、消解、煮沸、烘焙、干燥等溫度實驗，其升溫速度快，溫度準確，操作面大，表面耐強酸、強堿，是生物、遺傳、醫(yī)藥衛(wèi)生、環(huán)保、生化實驗室、分析室、教學科研的工具。其材質(zhì)采用鋁合金鑄造加工而成，導熱性好...

勻膠旋涂儀可用于除半導體外,還有硅片、芯片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝，科研、教學之用高精度涂敷。影響勻膠效果的因素有勻膠速度、勻膠加速度、控制精度等因素。勻膠轉(zhuǎn)速：基片的轉(zhuǎn)速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關系到緊挨著基片表...

潔凈的樣品反應管是獲得正確分析結果的前提，傳統(tǒng)的清洗方法是把實驗容器置于酸缸或熱酸中浸泡數(shù)小時甚至更長時間，這種方法效率低、酸消耗量大，為了避免交叉污染，需要定期更換酸，否則將給實驗數(shù)據(jù)帶來巨大的風險。對于實驗室人員來說，始終是一個非常繁瑣...

勻膠旋涂儀主要用于液體，膠體在材料表面薄膜的形成，適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工藝?？稍诳蒲?，教育，生產(chǎn)中應用。勻膠旋涂儀主要用微細加工、半導體、微電子、光電子和納米技術工藝中在硅片、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻、烘烤等設備配合使...

等離子體是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負電子組成的離子化氣體狀物質(zhì)，等離子體是一種很好的導電體，利用經(jīng)過巧妙設計的磁場可以捕捉、移動和加速等離子體。等離子表面處理儀是通過利用對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子狀態(tài)，利用...