勻膠旋涂?jī)x在勻膠過(guò)程中基片的加速度也會(huì)對(duì)膠膜的性能產(chǎn)生影響。因?yàn)樵诨D(zhuǎn)的階段,光刻膠就開(kāi)始干燥(溶劑揮發(fā))了,所以控制加速度很重要。在一些勻膠過(guò)程中,光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過(guò)程開(kāi)始的幾秒鐘內(nèi)揮發(fā)掉了。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠,加速度對(duì)膠膜質(zhì)量同樣起重要作用。
在許多情況下,勻膠旋涂?jī)x基片上已經(jīng)由前面工序留下來(lái)的精細(xì)圖形。因此,在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過(guò)程總是對(duì)光刻膠產(chǎn)生離心力,而恰恰是加速度對(duì)光刻膠產(chǎn)生扭力(twisting force),這個(gè)扭力使光刻膠在已有圖形的周?chē)㈤_(kāi),這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。
勻膠旋涂?jī)x的控制和顯示:
1.非常方便設(shè)定處理速度和加速度程序段;可設(shè)置順序循環(huán)控制;
2.顯示精度控制在設(shè)定值的0.006%以內(nèi);
3.操作者可隨時(shí)隨地自由實(shí)現(xiàn)人機(jī)交互;
設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)進(jìn)程中,可隨意向前,向后或者往返跳躍操作步驟;循環(huán)指令,并可以重復(fù)操作;在運(yùn)轉(zhuǎn)模式下也可以實(shí)時(shí)改變速度和加速度;包含PC程序端接口;可視化操作模型(化學(xué)試劑,傳感器所見(jiàn)即所得的操作界面);故障報(bào)警裝置(可形象顯明故障發(fā)生位置);加速度的小分辨率為1RPM/S;寬廣的速度設(shè)定范圍(1~12000RPM)。
勻膠旋涂?jī)x設(shè)備,包括弧形板,儲(chǔ)膠區(qū),導(dǎo)流板,支撐柱和固定板,弧形板的弧度與使用的上膠輥外壁相同,弧形板的一側(cè)設(shè)置有儲(chǔ)膠區(qū),與其對(duì)應(yīng)的另一側(cè)設(shè)置有導(dǎo)流區(qū),弧形板頂部中心設(shè)置有兩個(gè)相同的支撐柱,任意支撐柱頂部設(shè)置有螺母,任意支撐柱和螺母之間設(shè)置有固定板。任意支撐柱外壁有螺旋紋路,任意支撐柱和螺母螺旋連接。勻膠旋涂?jī)x設(shè)備有益之處在于:能夠?qū)⒛z液部勻,防止多余的膠液溢出,方便清潔,延長(zhǎng)使用壽命,提高涂膠機(jī)工作效率。